非導(dǎo)電樣品絕緣電阻大，在電子束掃描下，樣品表面逐漸積累負(fù)電荷，排斥入射電子，二次電子發(fā)射不穩(wěn)定，并隨機(jī)偏轉(zhuǎn)二次電子，造成圖像晃動(dòng)、亮度突變、出現(xiàn)無規(guī)則的明暗條紋，也就是所謂的 “荷電效應(yīng) ”。

通常在樣品表面鍍一層導(dǎo)電膜可以提高樣品的導(dǎo)電性，表面的負(fù)電荷通過導(dǎo)電膜釋放入地，消除荷電。電荷釋放的前提是膜層須與金屬樣品臺(tái)相連接，形成導(dǎo)電通道，此外連續(xù)的導(dǎo)電膜也可以提高樣品的導(dǎo)熱性，減小熱損傷。目前常用的鍍膜技術(shù)為真空蒸發(fā)和離子濺射。

常用的鍍膜材料有C、 Al、 Cr、 Au-. Pt、 Au-Pd合金。金膜二次電子產(chǎn)率高、覆蓋性好、鍍膜容易，是常用的材料，但顆粒較大，適用于中低范圍的分辨率、兩萬倍以下的圖像。Pt和Au-Pd合金膜的顆粒要細(xì)得多，適用于高分辨率圖像。 使用場(chǎng)發(fā)射電鏡對(duì)膜層要求更高，至少要在20萬倍下膜層不能顯現(xiàn)結(jié)構(gòu)，高真空鍍Cr可以滿足要求o C膜均勻性好，導(dǎo)電導(dǎo)熱效率高，又是經(jīng)濟(jì)的材料，只是二次電子產(chǎn)率低，不適合高倍圖像。

ZEM15臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)

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