在使用臺(tái)掃電鏡分析樣品時(shí)工作距離對(duì)其觀察結(jié)果有何影響

在使用臺(tái)掃電鏡（SEM）分析樣品時(shí)，工作距離（working distance, WD）對(duì)觀察結(jié)果有顯著影響。

掃描電鏡低真空和高真空區(qū)別

掃描電子顯微鏡（SEM）在低真空和高真空模式下工作時(shí)存在一些顯著的區(qū)別。

提高掃描電子顯微鏡（SEM）的放大倍數(shù)是為了觀察樣品的更細(xì)微的結(jié)構(gòu)和細(xì)節(jié)。

中國(guó)化學(xué)會(huì)第34屆學(xué)術(shù)年會(huì)于2024年6月15日至18日在廣東省廣州國(guó)際白云會(huì)議中心舉行。

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在掃描電子顯微鏡（SEM）中，工作距離（working distance，WD）是指電子束槍到樣品表面的距離。

掃描電鏡（SEM）工作時(shí)鏡筒內(nèi)的真空度是確保電子束正常傳輸和樣品表面電子散射檢測(cè)的重要因素。

在掃描電子顯微鏡（SEM）圖像中分析表面粗糙度是研究材料表面特性的重要方面。表面粗糙度可以影響材料的物理、化學(xué)和機(jī)械性質(zhì)，因此準(zhǔn)確分析表面粗糙度在材料科學(xué)、工程和其他領(lǐng)域中非常重要。