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澤攸科技無(wú)掩膜光刻機(jī)在PtTe2/WS2/金字塔狀Si異質(zhì)結(jié)構(gòu)制備中的應(yīng)用

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在當(dāng)今的光電探測(cè)器領(lǐng)域，二維(2D)材料因其獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì)而備受關(guān)注。...

澤攸科技無(wú)掩膜光刻機(jī)在MEMS壓力傳感器制造中的應(yīng)用

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在當(dāng)今的科技快速發(fā)展時(shí)代，微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）技術(shù)已成為推動(dòng)現(xiàn)代傳感器技術(shù)......

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